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Impact of the Backgate on the Performance of SOI UTBB nMOSFETs at Cryogenic Temperatures

Han, Yi ; Xi, Fengben ; et al.
In: Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (EuroSOI-ULIS); (2021-09-01) S. 1-4
Online Konferenz

Titel:
Impact of the Backgate on the Performance of SOI UTBB nMOSFETs at Cryogenic Temperatures
Autor/in / Beteiligte Person: Han, Yi ; Xi, Fengben ; Allibert, Frederic ; Radu, Ionut ; Prucnal, Slawomir ; Bae, Jin-Hee ; Hoffmann-Eifert, Susanne ; Knoch, Joachim ; Grutzmacher, Detlev ; Zhao, Qing-Tai
Link:
Quelle: Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon (EuroSOI-ULIS); (2021-09-01) S. 1-4
Veröffentlichung: 2021
Medientyp: Konferenz
ISBN: 978-1-6654-3745-5 (print)
ISSN: 2472-9132 (print)
DOI: 10.1109/EuroSOI-ULIS53016.2021.9560182
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: IEEE Xplore Digital Library

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