Van der Waals epitaxy by MOCVD of III-Nitrides using two-dimensional hexagonal boron nitride : applications and persperctives
In: Workshop Wide bandgap materials ; https://cnrs.hal.science/hal-03477812 ; Workshop Wide bandgap materials, May 2021, Wuhan, China, 2021
Konferenz
Zugriff:
conférence invitée ; International audience
Titel: |
Van der Waals epitaxy by MOCVD of III-Nitrides using two-dimensional hexagonal boron nitride : applications and persperctives
|
---|---|
Autor/in / Beteiligte Person: | Vuong, Thi Quynh Phuong ; Mballo, Adama ; Karrakchou, Soufiane ; Srivastava, Ashutosh ; Gujrati, Rajat ; Adjmi, Hibat ; Sundaram, Suresh ; Voss, Paul ; Salvestrini, Jean-Paul ; Ougazzaden, Abdallah ; Georgia Tech Lorraine Metz ; Ecole Nationale Supérieure des Arts et Metiers Metz-Georgia Institute of Technology Atlanta -Ecole Supérieure d'Electricité - SUPELEC (FRANCE)-CentraleSupélec-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Franche-Comté (UFC) ; Université Bourgogne Franche-Comté COMUE (UBFC)-Université Bourgogne Franche-Comté COMUE (UBFC) |
Link: | |
Zeitschrift: | Workshop Wide bandgap materials ; https://cnrs.hal.science/hal-03477812 ; Workshop Wide bandgap materials, May 2021, Wuhan, China, 2021 |
Veröffentlichung: | HAL CCSD, 2021 |
Medientyp: | Konferenz |
Schlagwort: |
|
Sonstiges: |
|