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Effects of reaction-kinetic parameters on modeling reaction pathways in GaN MOVPE growth

Zhang, Hong ; Zuo, Ran ; et al.
In: SCI, 2017
Online academicJournal

Titel:
Effects of reaction-kinetic parameters on modeling reaction pathways in GaN MOVPE growth
Autor/in / Beteiligte Person: Zhang, Hong ; Zuo, Ran ; Zhang, Guoyi ; Zuo, R (reprint author), Jiangsu Univ, Sch Energy & Power Engn, Zhenjiang, Peoples R China. ; Jiangsu Univ, Sch Energy & Power Engn, Zhenjiang, Peoples R China. ; Peking Univ, Sch Phys, Beijing, Peoples R China.
Link:
Zeitschrift: SCI, 2017
Veröffentlichung: JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 2017
Medientyp: academicJournal
ISSN: 0022-0248 (print) ; 1873-5002 (print)
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2017.08.029
Schlagwort:
  • Growth models
  • GaN
  • Gas reactions
  • Numerical modeling
  • VAPOR-PHASE EPITAXY
  • COMPUTATIONAL FLUID-DYNAMICS
  • III-NITRIDE MOVPE
  • GALLIUM NITRIDE
  • ORGANOMETALLIC PRECURSORS
  • TRIMETHYL-GALLIUM
  • CHEMISTRY
  • DESIGN
  • MOCVD
  • GAAS
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: BASE
  • Sprachen: English
  • Collection: Peking University Institutional Repository (PKU IR) / 北京大学机构知识库
  • Document Type: journal/newspaper
  • Language: English
  • Relation: JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 2017, 478, 193-204.; 1938576; http://hdl.handle.net/20.500.11897/484521; WOS:000413647300031

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