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Origins of enhanced thermoelectric power factor in topologically insulating Bi<subscript>0.64</subscript>Sb<subscript>1.36</subscript>Te<subscript>3</subscript> thin films.

Liu, Wei ; Chi, Hang ; et al.
In: Applied Physics Letters, Jg. 108 (2016-01-25), Heft 4, S. 1-5
Online academicJournal

Titel:
Origins of enhanced thermoelectric power factor in topologically insulating Bi<subscript>0.64</subscript>Sb<subscript>1.36</subscript>Te<subscript>3</subscript> thin films.
Autor/in / Beteiligte Person: Liu, Wei ; Chi, Hang ; Walrath, J. C. ; Chang, A. S. ; Stoica, Vladimir A. ; Endicott, Lynn ; Tang, Xinfeng ; Goldman, R. S. ; Uher, Ctirad
Link:
Zeitschrift: Applied Physics Letters, Jg. 108 (2016-01-25), Heft 4, S. 1-5
Veröffentlichung: 2016
Medientyp: academicJournal
ISSN: 0003-6951 (print)
DOI: 10.1063/1.4940923
Schlagwort:
  • ELECTRIC power factor
  • THERMOELECTRIC power
  • METALLIC films
  • BISMUTH compounds
  • SCANNING tunneling microscopy
  • FERMI level
  • SEEBECK coefficient
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: Complementary Index
  • Sprachen: English

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