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    Variation of residual stress in cubic boron nitride film caused by hydrogen addition during unbalanced magnetron sputtering
    Kim, H. S. ; Park, J. K. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-09-01), Heft 22, S. 7871-7874
    Online academicJournal
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    The effect of titanium current on structure and hardness of aluminium titanium nitride deposited by reactive unbalanced magnetron co-sputtering
    Buranawong, A. ; Witit-anun, N. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-05-31), Heft 15, S. 4963-4968
    Online academicJournal
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    Preparation of Cr(N,O) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering
    Shirahata, Jun ; Ohori, Tetsutaro ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 519 (2011-03-31), Heft 11, S. 3497-3500
    Online academicJournal
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  4. Detailansicht für Treffer 44 öffnen
    Microstructure and tribological properties of TiN, TiC and Ti(C, N) thin films prepared by closed-field unbalanced magnetron sputtering ion plating
    Zhang, Guojun ; Li, Bin ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 255 (2009-08-15), Heft 21, S. 8788-8793
    Online academicJournal
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  5. Detailansicht für Treffer 45 öffnen
    Characteristics of sputtered amorphous carbon films prepared by a closed-field unbalanced magnetron sputtering method
    Park, Yong Seob ; Hong, Byungyou
    In: Journal of Non-Crystalline Solids, Jg. 354 (2008-12-15), Heft 52-54, S. 5504-5508
    Online academicJournal
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  6. Detailansicht für Treffer 46 öffnen
    Structure and hardness of unbalanced magnetron sputtered TiB<subscript> x </subscript>N<subscript> y </subscript> thin films deposited at 500 °C
    Lu, Y.H. ; Shen, Y.G. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2007-05-21), Heft 16/17, S. 7368-7374
    Online academicJournal
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  7. Detailansicht für Treffer 47 öffnen
    Structure and mechanical properties of ZrCrAlN nanostructured thin films by closed-field unbalanced magnetron sputtering
    Kim, Youn J. ; Lee, Ho Y. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2007-02-26), Heft 9-11, S. 5547-5551
    Online academicJournal
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  8. Detailansicht für Treffer 48 öffnen
    Deposition of silicon carbon nitride thin films by microwave ECR plasma enhanced unbalance magnetron sputtering
    Gao, Peng ; Xu, Jun ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2007-02-26), Heft 9-11, S. 5298-5301
    Online academicJournal
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  9. Detailansicht für Treffer 49 öffnen
    Investigation of processing parameters for pulsed closed-field unbalanced magnetron co-sputtered TiC–C thin films
    Anton, J.M. ; Mishra, B. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2006-12-20), Heft 7, S. 4131-4135
    Online academicJournal
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  10. Detailansicht für Treffer 50 öffnen
    Effect of Ti interlayer on the residual stress and texture development of TiN thin films deposited by unbalanced magnetron sputtering
    Huang, Jia-Hong ; Ma, Cheng-Hsin ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2006-12-04), Heft 6, S. 3199-3204
    Online academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 51 öffnen
    Surface free energy of CrN<subscript> x </subscript> films deposited using closed field unbalanced magnetron sputtering
    Sun, Chen-Cheng ; Lee, Shih-Chin ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 252 (2006-09-30), Heft 23, S. 8295-8300
    Online academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 52 öffnen
    Effect of Si content on the properties of TiAl–Si–N films deposited by closed field unbalanced magnetron sputtering with vertical magnetron sources
    Kim, Gwang Seok ; Kim, Bom Sok ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 506-507 (2006-05-26), S. 128-132
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  13. Detailansicht für Treffer 53 öffnen
    N-rich Zr–N films deposited by unbalanced magnetron sputtering enhanced with a highly reactive MW-ECR plasma
    Zhiguo, Zhang ; Tianwei, Liu ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2006-04-27), Heft 16/17, S. 4918-4922
    Online academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 54 öffnen
    Biaxially aligned titanium nitride thin films deposited by reactive unbalanced magnetron sputtering
    Mahieu, S. ; Ghekiere, P. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2006-01-24), Heft 8, S. 2764-2768
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  15. Detailansicht für Treffer 55 öffnen
    Residual stresses in titanium nitride thin films deposited by direct current and pulsed direct current unbalanced magnetron sputtering
    Benegra, M. ; Lamas, D.G. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 494 (2006-01-03), Heft 1/2, S. 146-150
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 56 öffnen
    Cathode current distributions in an unbalanced magnetron
    Clarke, G.C.B. ; Kelly, P.J. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2005-11-21), Heft 5/6, S. 1341-1345
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  17. Detailansicht für Treffer 57 öffnen
    Raman spectroscopy study of C/Cr coatings deposited by the combined steered cathodic ARC/unbalanced magnetron sputtering technique
    Kok, Y.N. ; Hovsepian, P. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2005-10-01), Heft 1-4, S. 1117-1122
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  18. Detailansicht für Treffer 58 öffnen
    Unbalanced magnetron sputtered Ti–Si–N:MoS<subscript>x</subscript> composite coatings for improvement of tribological properties
    Ding, Xing-zhao ; Zeng, X.T. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 198 (2005-08-01), Heft 1-3, S. 432-436
    Online academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 59 öffnen
    Influence of the Ar/O<subscript>2</subscript> ratio on the growth and biaxial alignment of yttria stabilized zirconia layers during reactive unbalanced magnetron sputtering
    Mahieu, S. ; Ghekiere, P. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 484 (2005-07-15), Heft 1/2, S. 18-25
    Online academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 60 öffnen
    The electrical and structural properties of the hydrogenated amorphous carbon films grown by close field unbalanced magnetron sputtering
    Park, Yong Seob ; Myung, Hyun Sik ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 482 (2005-06-15), Heft 1/2, S. 275-279
    Online academicJournal
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