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    High quality thermochromic VO2 thin films deposited at room temperature by balanced and unbalanced HiPIMS.
    Victor, J.L. ; Marcel, C. ; et al.
    In: Solar Energy Materials & Solar Cells, Jg. 227 (2021-08-01), S. N.PAG
    Online academicJournal
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    Fabrication and surface characterization of pulsed reactive closed-field unbalanced magnetron sputtered amorphous silicon nitride films
    Yao, Zh.Q. ; Yang, P. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2006-03-31), Heft 12/13, S. 4144-4151
    Online academicJournal
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    Composition, structure and properties of SiN<subscript> x </subscript> films fabricated by pulsed reactive closed-field unbalanced magnetron sputtering
    Yao, Zh.Q. ; Yang, P. ; et al.
    In: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B, Jg. 240 (2005-11-01), Heft 3, S. 741-751
    Online academicJournal
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    Optical characterization of hydrogen-free CeO<subscript>2</subscript> doped DLC films deposited by unbalanced magnetron sputtering
    Zhang, Zhenyu ; Zhou, Hongxiu ; et al.
    In: Applied Surface Science, Jg. 255 (2008-12-31), Heft 5, S. 2655-2659
    Online academicJournal
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    Effects of the substrate to chamber wall distance on the structure and properties of CrAlN films deposited by pulsed-closed field unbalanced magnetron sputtering (P-CFUBMS)
    Lin, J. ; Mishra, B. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2007-05-21), Heft 16/17, S. 6960-6969
    Online academicJournal
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    The microstructure and properties of titanium dioxide films synthesized by unbalanced magnetron sputtering
    Leng, Y.X. ; Chen, J.Y. ; et al.
    In: Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B, Jg. 257 (2007-04-01), Heft 1/2, S. 451-454
    Online academicJournal
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    Deposition and characterization of TiAlN/Si<subscript>3</subscript>N<subscript>4</subscript> superhard nanocomposite coatings prepared by reactive direct current unbalanced magnetron sputtering
    Barshilia, Harish C. ; Deepthi, B. ; et al.
    In: Vacuum, Jg. 81 (2006-11-06), Heft 4, S. 479-488
    Online academicJournal
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    Deposition of carbon films onto metal and silicon substrates by filtered cathodic vacuum arc, plasma enhanced CVD and unbalanced magnetron sputtering
    Ahmad, I. ; Maguire, P.D. ; et al.
    In: Diamond & Related Materials, Jg. 13 (2004-04-01), Heft 4-8, S. 1346-1349
    Online academicJournal
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    Nanocomposite Ti–Si–N films deposited by reactive unbalanced magnetron sputtering at room temperature
    Jiang, Ning ; Shen, Y.G. ; et al.
    In: Materials Science & Engineering: B, Jg. 106 (2004-01-25), Heft 2, S. 163-171
    Online academicJournal
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    Effect of Si content on the properties of TiAl–Si–N films deposited by closed field unbalanced magnetron sputtering with vertical magnetron sources
    Kim, Gwang Seok ; Kim, Bom Sok ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 506-507 (2006-05-26), S. 128-132
    Online academicJournal
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    Unbalanced magnetron sputtered Ti–Si–N:MoS<subscript>x</subscript> composite coatings for improvement of tribological properties
    Ding, Xing-zhao ; Zeng, X.T. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 198 (2005-08-01), Heft 1-3, S. 432-436
    Online academicJournal
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    Influence of the Ar/O<subscript>2</subscript> ratio on the growth and biaxial alignment of yttria stabilized zirconia layers during reactive unbalanced magnetron sputtering
    Mahieu, S. ; Ghekiere, P. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 484 (2005-07-15), Heft 1/2, S. 18-25
    Online academicJournal
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    Effect of substrate bias voltage and substrate on the structural properties of amorphous carbon films deposited by unbalanced magnetron sputtering
    Ahmad, I. ; Roy, S.S. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 482 (2005-06-15), Heft 1/2, S. 45-49
    Online academicJournal
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    Characterization of CN<subscript>x</subscript> thin films prepared by close field unbalanced magnetron sputtering
    Park, Yong Seob ; Myung, Hyun Sik ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 475 (2005-03-22), Heft 1/2, S. 298-302
    Online academicJournal
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    Structures and mechanical properties of diamond like carbon films prepared by closed-field unbalanced magnetron sputtering
    Myung, Hyun S. ; Park, Yong S. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 475 (2005-03-22), Heft 1/2, S. 303-307
    Online academicJournal
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    Sub-microstructure and surface topography of reactive unbalanced magnetron sputtered titanium and titanium compound thin films
    Carpenter, S. ; Kelly, P.J.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 204 (2009-12-25), Heft 6/7, S. 923-926
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    Mechanical evaluation of unbiased W–O–N coatings deposited by d.c. reactive magnetron sputtering
    Parreira, N.M.G. ; Carvalho, N.J.M. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2006-06-20), Heft 22/23, S. 6511-6516
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    The characteristics of the plasma in a powder sputtering rig
    Zhou, Yanwen ; Kelly, Peter ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-04-30), Heft 12, S. 4030-4035
    Online academicJournal
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    Magnetron configurations dependent room temperature sputtered ZnO thin films for highly responsive, stable, and selective CO gas sensing.
    Godiwal, Rahul ; Kumar Gangwar, Amit ; et al.
    In: Materials Letters, Jg. 357 (2024-02-15), S. N.PAG
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    Fluorocarbon polymer thin films prepared by three different types of r.f. magnetron sputtering systems
    Iwamori, Satoru ; Hasegawa, Norihiko ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 203 (2008-10-25), Heft 1/2, S. 59-64
    Online academicJournal
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