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    Study of electromagnetic diffraction by curved strip gratings by use of the C-method
    Guizal, B. ; Granet, G. ; et al.
    In: ISSN: 1084-7529, 2007
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Study of electromagnetic diffraction by curved strip gratings by use of the C-method
    Guizal, B. ; Granet, G. ; et al.
    In: ISSN: 1084-7529, 2007
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Study of electromagnetic diffraction by curved strip gratings by use of the C-method
    Guizal, B. ; Granet, G. ; et al.
    In: ISSN: 1084-7529, 2007
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://ujm.hal.science/ujm-00481902 ; Optics Express, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. ⟨10.1364/OE.18.010557⟩ ; https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-18-10-10557&id=199360, 2010
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://ujm.hal.science/ujm-00481902 ; Optics Express, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. ⟨10.1364/OE.18.010557⟩ ; https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-18-10-10557&id=199360, 2010
    academicJournal
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://ujm.hal.science/ujm-00481902 ; Optics Express, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. ⟨10.1364/OE.18.010557⟩ ; https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-18-10-10557&id=199360, 2010
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://ujm.hal.science/ujm-00481902 ; Optics Express, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. ⟨10.1364/OE.18.010557⟩ ; https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-18-10-10557&id=199360, 2010
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://ujm.hal.science/ujm-00481902 ; Optics Express, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. ⟨10.1364/OE.18.010557⟩ ; https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-18-10-10557&id=199360, 2010
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://ujm.hal.science/ujm-00481902 ; Optics Express, 2010, 18 (10), pp.10557-10566. ⟨10.1364/OE.18.010557⟩ ; https://opg.optica.org/oe/fulltext.cfm?uri=oe-18-10-10557&id=199360, 2010
    academicJournal
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    100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
    Bourgin, Yannick ; Jourlin, Yves ; et al.
    In: ISSN: 1094-4087 ; Optics Express ; https://hal-ujm.archives-ouvertes.fr/ujm-00481902 ; Optics Express, Optical Society of America - OSA Publishing, 2010, 18 (10), pp.10557-10566, 2010
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