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    Flexible fast responding solar-blind photodetectors based on (TmGa)<subscript>2</subscript>O<subscript>3</subscript> films grown on mica.
    Qu, Qiulin ; Liu, Qi ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 120 (2022-03-21), Heft 12, S. 1-7
    Online academicJournal
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    Plasma enhanced atomic layer deposition and atomic layer etching of gallium oxide using trimethylgallium.
    Hatch, Kevin A. ; Messina, Daniel C. ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films, Jg. 40 (2022-07-01), Heft 4, S. 1-7
    Online academicJournal
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    Low-temperature growth of gallium oxide thin films by plasma-enhanced atomic layer deposition.
    Mahmoodinezhad, Ali ; Janowitz, Christoph ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films, Jg. 38 (2020-03-01), Heft 2, S. 1-11
    Online academicJournal
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    Comparison of trimethylgallium and triethylgallium as "Ga" source materials for the growth of ultrathin GaN films on Si (100) substrates via hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition.
    Alevli, Mustafa ; Haider, Ali ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films, Jg. 34 (2016), Heft 1, S. 1A137-1- (6S.)
    Online academicJournal
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    Decomposition of trimethylgallium in the downstream region of a near afterglow plasma.
    Sheng, T. ; Pihlstrom, B. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 55 (1989-12-04), Heft 23, S. 2411-2413
    Online academicJournal
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    Reaction mechanisms in the organometallic vapor phase epitaxial growth of GaAs.
    Larsen, C. A. ; Buchan, N. I. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 52 (1988-02-08), Heft 6, S. 480-482
    Online academicJournal
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    Electronic passivation of silicon surfaces by thin films of atomic layer deposited gallium oxide.
    Allen, T. G. ; Cuevas, A.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 105 (2014-07-21), Heft 3, S. 1-4
    Online academicJournal
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