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    Copper target erosion during unbalanced magnetron sputtering under different electromagnetic fields.
    An, Qiaoru ; Li, Jie ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 477 (2024-02-15), S. N.PAG
    Online academicJournal
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    Scratch response and tribological behaviour of CrAlNiN coatings deposited by closed field unbalanced magnetron sputtering system.
    Sha, Chuhan ; Zhou, Zhifeng ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 367 (2019-06-15), S. 30-40
    Online academicJournal
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    Microstructure and friction behavior of LaF3 doped Ti-MoS2 composite thin films deposited by unbalanced magnetron sputtering.
    Zhang, Chao ; Yang, Biqi ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 359 (2019-02-15), S. 334-341
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    Effect of Ni content on the microstructure and mechanical behaviour of CrAlNiN coatings deposited by closed field unbalanced magnetron sputtering.
    Sha, Chuhan ; Munroe, Paul ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 357 (2019-01-15), S. 445-455
    Online academicJournal
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    Structure and mechanical properties of graded Cr/CrN/CrTiN coatings synthesized by close field unbalanced magnetron sputtering.
    Kabir, Mohammad Sharear ; Munroe, Paul ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 309 (2017-01-15), S. 779-789
    Online academicJournal
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    Examination of the pulsing phenomena in pulsed-closed field unbalanced magnetron sputtering (P-CFUBMS) of Cr–Al–N thin films
    Lin, J. ; Moore, J.J. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2007-01-15), Heft 8, S. 4640-4652
    Online academicJournal
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    Niobium thin film thickness profile tailoring on complex shape substrates using unbalanced biased High Power Impulse Magnetron Sputtering.
    Rosaz, Guillaume ; Bartkowska, Aleksandra ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 436 (2022-04-25), S. N.PAG
    Online academicJournal
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    TiBCN:CN<subscript>x</subscript> multilayer coatings deposited by pulsed closed field unbalanced magnetron sputtering
    Lin, Jianliang ; Moore, John J. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 206 (2011-11-15), Heft 4, S. 617-622
    Online academicJournal
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    Fabrication and surface characterization of pulsed reactive closed-field unbalanced magnetron sputtered amorphous silicon nitride films
    Yao, Zh.Q. ; Yang, P. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 200 (2006-03-31), Heft 12/13, S. 4144-4151
    Online academicJournal
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Novel coating systems produced by the combined cathodic arc/unbalanced magnetron sputtering for environmental protection of titanium alloys
    Leyens, C. ; Peters, M. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 155 (2002-06-17), Heft 2/3, S. 103-111
    Online academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Synthesis of Zn–Mg coatings using unbalanced magnetron sputtering and theirs corrosion resistance.
    La, Joung ; Hyun ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 259 (2014-11-25), S. 56-61
    Online academicJournal
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    Effect of plasma nitriding on adhesion strength of CrTiAlN coatings on H13 steels by closed field unbalanced magnetron sputter ion plating.
    Ge, P.L. ; Bao, M.D. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 229 (2013-08-25), S. 146-150
    Online academicJournal
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    Formation and behavior of unbonded hydrogen in a-C:H of various compositions and densities
    Houska, J. ; Klemberg-Sapieha, J.E. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 203 (2009-09-15), Heft 24, S. 3770-3776
    Online academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Microstructure, mechanical and tribological properties of Cr<subscript>1−x </subscript>Al<subscript> x </subscript>N films deposited by pulsed-closed field unbalanced magnetron sputtering (P-CFUBMS)
    Lin, J. ; Mishra, B. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2006-12-20), Heft 7, S. 4329-4334
    Online academicJournal
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    Comparative properties of titanium oxide biomaterials grown by pulsed vacuum arc plasma deposition and by unbalanced magnetron sputtering
    Leng, Y.X. ; Chen, J.Y. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 201 (2006-09-12), Heft 1/2, S. 157-163
    Online academicJournal
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    Structural and mechanical properties of titanium–aluminium–nitride films deposited by reactive close-field unbalanced magnetron sputtering
    Shum, P.W. ; Li, K.Y. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 185 (2004-07-22), Heft 2/3, S. 245-253
    Online academicJournal
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    Deposition and characterization of (Nb,Cr)N thin films by unbalanced magnetron sputtering
    Tan, J.N. ; Hsieh, J.H.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 167 (2003-04-22), Heft 2/3, S. 154-160
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    The deposition of crystallized TiO<subscript>2</subscript> coatings by closed field unbalanced magnetron sputter ion plating.
    Zhang, X. ; Cooke, K. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 236 (2013-12-15), S. 290-295
    Online academicJournal
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    Effect of Ni addition on the structure and properties of Cr–Ni–N coatings deposited by closed-field unbalanced magnetron sputtering ion plating.
    Cheng, W.L. ; Zhou, Z.F. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 229 (2013-08-25), S. 84-89
    Online academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    The parameter space of hydrogen content added to Ar–nitrogen sputtering gas and substrate bias voltage for the formation of cubic boron nitride thin film deposited by unbalanced magnetron sputtering method.
    Ko, J. S. ; Park, J. K. ; et al.
    In: Surface & Coatings Technology, Jg. 223 (2013-05-25), S. 75-78
    Online academicJournal
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