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    Effects of precursor additives on the stability of plasma enhanced chemical vapor deposited a-GeC(O):H films
    Grill, A. ; Guilley, S. ; et al.
    In: Journal of Materials Research, Jg. 17 (2002-02-01), Heft 2, S. 367-375
    Online academicJournal
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    Synthesis of the new RGaMnO<subscript>5</subscript> (R = Ho, Er, Tm) oxides: Structural and magnetic features
    de la Calle, Cristina ; Alonso, José A. ; et al.
    In: Journal of Materials Research, Jg. 24 (2009-09-01), Heft 9, S. 2837-2844
    Online academicJournal
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    Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Growth Window for Undoped Gallium Antimonide
    Subekti, A. ; Goldys, E. M. ; et al.
    In: Journal of Materials Research, Jg. 14 (1999-04-01), Heft 4
    Online academicJournal
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    Modulating crack propagation in a multilayer stack with a super-layer
    Li, Han ; Iqbal, Asad ; et al.
    In: Journal of Materials Research, Jg. 30 (2015-10-01), Heft 20, S. 3065-3070
    Online academicJournal
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