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    EPMA and ellipsometric characterization of PECVD boron-carbon films
    KANAEV, A. I. ; RYBAKOV, S. Yu. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 3 (1993-12-01), Heft 1, S. C3-183- (1833186S.)
    serialPeriodical
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    High Purity Chromium Metal Oxygen Distribution (Determined by XPS and EPMA)
    Suzuki, K. ; Tomioka, H.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 5 (1995-06-01), Heft 1, S. C7-211- (2117210S.)
    serialPeriodical
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    Oxygen Effect on the Stability of PECVD Boron-Carbon Films
    Rybakov, S. Yu. ; Sharapov, V. M. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 5 (1995-06-01), Heft 1, S. C5-921- (9215922S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Chemical behaviour of iron base substrates in liquid Mg-Zn alloys
    Viala, J. C. ; Pierre, D. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 113 (2004), Heft 1, S. 101-104
    serialPeriodical
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    Experimental study and modelling of Pb-Bi-Hg system
    Maitre, A. ; Fiorani, J. M. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 113 (2004), Heft 1, S. 69-74
    serialPeriodical
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  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Experimental and theoretical simulation of material degradation caused by atomic oxygen impact in space
    Uchiyama, T. ; Satoh, K. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 10 (2000-09-01), Heft 1, S. Pr9-713- (7139710S.)
    serialPeriodical
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    Structured YBa2Cu3O7-δthin films grown on aligned calcium stabilized zirconia-calcium zirconate lamellar eutectic substrates
    Santiso, J. ; Angurel, L. A. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 9 (1999-09-01), Heft 1, S. Pr8-307- (3078304S.)
    serialPeriodical
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    Deposition of Ta2O5and (TiO2)-(Ta2O5) films from Ta(OEt)4(DMAE) and Ti(OEt)2(DMAE)2, by IMOCVD
    Jiménez, C. ; Paillous, M. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 9 (1999-09-01), Heft 1, S. Pr8-569- (5698566S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Er, Yb, and Er, Yb (CO-)doped yttria thin films, deposited by an aerosol assisted MO-CVD process
    Meffre, W. ; Deschanvres, J. L. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 9 (1999-09-01), Heft 1, S. Pr8-583- (5838581S.)
    serialPeriodical
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Deposition of metastable Ti(1-x)AlxN films by plasma-enhanced CVD
    Prange, R. ; Neuschütz, D.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 9 (1999-09-01), Heft 1, S. Pr8-811- (8118811S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Hafnium carbide as a barrier in multilayer coatings by chemical vapor deposition (CVD)
    Wunder, V. K. ; Popovska, N. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 9 (1999-09-01), Heft 1, S. Pr8-509- (5098509S.)
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Real Time X-Ray Diffraction Study of the Formation by SHS of the Phases γ' and H in the Ternary System Al Ni Ti
    Javel, J. F. ; Dirand, M. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 6 (1996-12-01), Heft 1, S. C2-229- (2292233S.)
    serialPeriodical
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Titanium borides deposited by chemical vapor deposition thermodynamic calculation and experiments
    NADAL, M. ; GRENET, T. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 3 (1993-12-01), Heft 1, S. C3-511- (5113516S.)
    serialPeriodical
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Surface microsurgery: taper section preparation
    Desport, J. A. ; Bennett, M. J.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 3 (1993-12-01), Heft 1, S. C9-453- (4539452S.)
    serialPeriodical
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Development of TiN-Si3N4Nano Composite Coatings for Wear Resistance Applications
    Dias, A. G. ; van Breda, J. H. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 5 (1995-06-01), Heft 1, S. C5-831- (8315836S.)
    serialPeriodical
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    SiCN Amorphous Materials Chemical Vapour Deposited Using the Si(CH3)4-NH3-H2System
    Bendeddouche, A. ; Berjoan, R. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 5 (1995-06-01), Heft 1, S. C5-793- (7935796S.)
    serialPeriodical
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    LPCVD SiC COATINGS ON UNIDIRECTIONAL CARBON FIBRE-YARNS : APPLICATION TO ALUMINIUM MATRIX COMPOSITES
    VIDAL-SÉTIF, M. H. ; GÉRARD, J. L.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 2 (1992-10-01), Heft 1, S. C2-681- (6812687S.)
    serialPeriodical
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    AN EXPERIMENTAL KINETIC STUDY OF BORON NITRIDE CVD FROM BF3-NH3-Ar MIXTURES
    PROUHET, S. ; GUETTE, A. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 2 (1992-10-01), Heft 1, S. C2-119- (1192125S.)
    serialPeriodical
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    TITANOCENE-DICHLORIDE AS A METALORGANIC SOURCE FOR TITANIUM CARBIDE
    SLIFIRSKI, J. ; HUCHET, G. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 2 (1992-10-01), Heft 1, S. C2-625- (6252630S.)
    serialPeriodical
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    Stability and formation kinetics of TiN and silicides in the Ti/Si3N4diffusion couple
    PAULASTO, M. ; VAN LOO, F. J.J. ; et al.
    In: Journal de Physique IV - Proceedings, Jg. 3 (1993-12-01), Heft 1, S. C7-1069- (106971066S.)
    serialPeriodical
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