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In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 15 (2002-05-01), Heft 2, S. 232-244Online academicJournalZugriff:
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Rapid characterization and modeling of pattern-dependent variation in chemical-mechanical polishing.In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 11 (1998-02-01), Heft 1, S. 129-140Online academicJournalZugriff: